鼎龙股份申请一种化学机械抛光后清洗组合物及其应用专利，增强清洗液对铜的清洁能力

本文源自:金融界

金融界 2024 年 8 月 4 日消息，天眼查知识产权信息显示，湖北鼎龙控股股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光后清洗组合物及其应用“，公开号 CN202410529518.8，申请日期为 2024 年 4 月。

专利摘要显示，本发明公开了一种化学机械抛光后清洗组合物，包含：碱性 pH 调节剂，螯合剂，羟胺化合物，磺酸类表面活性剂，腐蚀抑制剂，余量为水；所述螯合剂的量为 0.001wt％～0.005wt％，所述磺酸类表面活性剂的量为 0.001wt％～0.008wt％；所述磺酸类表面活性剂包括十二烷基二苯醚二磺酸、牛磺酸、聚氧乙烯醚磺酸、甲基椰油酰基牛磺酸、吡啶类磺酸及其盐中的一种或多种。本发明加入少量的磺酸类表面活性剂，有效的降低了清洗液的表面张力，增强了清洗液在铜表面的润湿性，使清洗液对铜的清洁能力进一步得到了增强，并且可以有效降低螯合剂的使用。